随着市场竞争的加剧和技术进步的不断推进,半导体企业必须持续创新、不断降低产品成本,提高产品效率,才能在激烈的市场竞争中立于不败之地。其中,降本增效已成为半导体企业生存和发展的必由之路。

提升良品率和资源利用效率,是半导体企业降本增效的两大途径,而处于半导体上游的超纯水制备,可以在以上两大环节深度参与其中。近些年来,包括高频科技在内的头部超纯水企业,一直探索通过先进的超纯水工艺和循环再生解决方案,助力半导体企业降本增效,并取得令人瞩目的成果。

超纯水先进工艺,协助企业降本增效

对于一种包含1000道工序的半导体工艺技术来说,若是每一道工序产品良率为99.9%,则最终的产品良率仅为36.7%。因此,半导体企业想要实现降本增效,首先要在单个工序中进一步提升产品良率,达到99.99%甚至99.999%的良率标准。而超纯水则是提升良品率的关键之一。上千道芯片制造工艺的过程中有30%都在湿法清洗,都需要用到电阻率为18兆欧以上的超纯水。当集成电路的集成度越高,线宽越窄,对水质的要求也就越高。换言之,越接近18.24兆欧理论极限值的超纯水,对芯片清洗的效果越好,也越有利于助推良品率提升,进而打下降本增效的基石。

此外,半导体企业降本增效还需提升水资源利用效率。半导体是用水密集型行业,吸收了27%的工业用水。而且行业统计数据表明,芯片生产的先进制程技术越进步,清洗步骤越多,用水量会呈指数级提升。随着半导体行业开始进入“后摩尔定律时代”,资源利用率已经成为制约半导体产业发展的核心要素之一。因此,提升半导体用水效能,是半导体企业降低生产成本,提升竞争力和实现可持续发展的关键突破口。

高频科技立足先进超纯水工艺及解决方案,赋能降本增效

作为半导体产业链上极为重要的一环,高频科技始终关注半导体客户多方面需求,通过不断提升超纯水水质指标,优化水循环再生解决方案,帮助提升良品率和水资源利用效率,以“双维度”助力半导体企业降本增效。

在超纯水水质指标提升方面,高频科技取得重要成果,超纯水杂质浓度解决方案有了突破进展,特别是在PPB级别的TOC、溶解氧去除,以及PPT级别的硼、硅等特殊物质的去除方面。通过过硬的技术把控力和工程实践经验,针对有机物(TOC)、颗粒物、细菌、金属和阴离子等影响良率的主要杂质,已经实现领先于行业的技术成果,产水水质接近绝对纯度,电导率无限接近18.24MΩ•厘米的理论极限值,其纯度可达99.9999999999%,可以有效地避免杂质对芯片的影响,保证芯片的质量和稳定性,从而提升良品率,为半导体客户塑造强大的经济效益壁垒。

在提升水资源利用效率方面,高频科技同样拥有走在行业前列的成果和解决方案。依托自有优秀半导体水系统专家,高频科技从覆盖半导体企业用水生命周期整体流程统筹规划,在确保超纯水水质纯度稳定达标的基础之上,配合多类废水的收集与处理系统,研发交付了超过30种可选回用水工艺技术,包括砂滤及炭滤器反洗水回用、砂滤及炭滤器正冲水回用、反渗透浓缩水回用、EDI和UF浓缩水回用、反渗透冲洗水回用、冷却塔排放水回用、低浓度有机废水回用、混床再生冲洗水回用、低浓度含氟废水回用、洗涤塔排放水回用、仪表排放水回用等,积极寻求节水机会点,并以清洗质量、良品率为核心导向,已实现水制程回收率达75%-90%,让每一滴超纯水都可以循环再利用。

同时,高频科技从覆盖半导体企业用水生命周期整体流程统筹规划,通过事前规划、专家运维、绿色水系统创新等维度,协助半导体企业打造低本高效、操作便利、维护简单、可扩充性、理念创新的“绿色厂务工厂”,助半导体企业高效可持续发展。

降本增效是半导体企业必须要面对的重要课题。超纯水纯净工艺和水循环设备及解决方案,是半导体企业实现高良品率和水能效的关键因素之一,也是企业提高竞争力和效益的突破方向。作为立足于超纯工艺能力的工业级技术服务商,高频科技不断推进超纯水和水循环技术的研发及创新,以满足半导体企业降本增效的需求,为产业高质量发展做出贡献。

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